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低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域

低溫恒溫循環(huán)器能夠?qū)崿F(xiàn)溫度超溫保護,自動切斷電源并報警，制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護,安全性高，風(fēng)冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快,效率更高。

低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域：

1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等。

6.對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

主要用途：

1、對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學(xué)反應(yīng)儀光源部分進行低溫冷卻

2、對雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制

3、對分光光度計的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

4、對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制

5、對激光加工機的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

6、對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制

7、對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制

8、對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制

9、對電泳儀、粘度計、醫(yī)用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制

10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴散泵、微波治療機進行低溫冷卻和溫度控制